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  名称:TDC-200膜层控制仪(专业用于实时薄膜沉积速率控制)


详细:
TDC-200膜层控制仪在线测量和控制镀膜的速率和膜层的厚度,具有闭环控制沉积速率,与光学控制设备配合使用,可完成复杂的光学镀膜。本仪器可以控制单层或多层膜的沉积,通过对沉积工艺的数字化控制,大幅提高镀膜的质量和可重复性。可使用全自动模式来完成复杂膜系的制备,同时又提供了半自动和手动的控制方式,与自动化程度不同的镀膜设备协同工作。
配置
TDC-200膜层控制仪可支持标准单探头、带挡板单探头和带挡板双探头。
TDC-200膜层控制仪配备了RS-232工业标准通信接口,配合本公司提供的计算机控制软件,方便用户在计算机上进行膜系编程,通过计算机进行数据采集和数据分析,实现远程控制。用户也可根据本公司提供的通信协议进行二次开发,在自行设计的软件中集成测量和控制功能,可方便地实现系统集成。
TDC-200膜层控制仪具有16个独立输入/输出端口。具有两个高精度的源控制电压输出,以配合有两个源的真空镀膜设备,特别是在进行多层镀膜时,大大提高了控制精度,进而提高镀膜质量。
编程
TDC-200型膜层控制仪采用全中文人机操作界面,易于使用。配备256x128大型图形点阵LCD,低功耗LED背光,整屏显示内容多,并支持滚屏,用户编程和操作方便快捷。
TDC-200膜层控制仪具有5个可编程工艺膜系,每个工艺膜系最多能设定99层,共计495个膜层。包含一个267种材料的材料参数库,其中已定义的材料为257种,未定义的材料10种,可由用户自行设定。
功能
TDC-200膜层控制仪提供给用户厚度、速度、功率等实时数据,以便用户可以对实时数据进行分析,并提供速度曲线和功率曲线,通过观察过程曲线了解镀膜情况,方便用户迅速找到最佳的控制工艺。
TDC-200膜层控制仪采用闭环控制技术稳定材料的沉积速率,与光学控制设备配合使用时,可配合光学测量系统测量膜层的光学厚度,用来补偿物理厚度和光学厚度之间的偏差,可以满足复杂的光学镀膜工艺要求。
在镀膜过程中,当晶片无效时,TDC-200膜层控制仪能自动设定中断,并启动切换程序,控制双探头系统,待晶片切换成功后,继续恢复镀膜,以确保多层镀膜工艺连续性。
规格
测量
频率计算精度 0.03Hz(在6.0MHz)
频率显示精度 0.01Hz
测量速率 4Hz
显示
厚度显示 000000Å~999999Å
速率显示 000.0~999.9 Å/s
功率显示 00.0~99.9%
时间显示 00:00:00~23:59:59(时:分:秒)
图形显示 256x128LCD,低功耗LED背光
存储能力
膜系 5个
层 每膜系99层,共495层
材料库 已定义257种材料,用户可再定义
10种材料
通讯
通讯接口 标配RS-232串行口
WINDOWS软件 随机附带
 
控制能力
膜系 5
层/膜系 01~99
源 1~2
坩埚 1~12
探头规格
标准单探头
带挡板单探头(可选)
带挡板双探头(可选)
探头数量 可支持2路
源电压输出范围 0±2.5V
0±5V
0±10V
输出能力 16个继电器,最大2A
输入能力 16个隔离通道,可接入交直流
信号
供电要求 220V(±5%),50Hz,功率
≤40W
工作温度 0℃~50℃
仪器尺寸 135 x 480x360mm(高x宽x
深),可用于19’标准工业机架
仪器重量 5.5Kg  
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